日本日立聚焦离子束&电子束装置NB5000

日本日立聚焦离子束&电子束装置NB5000概述

双束FIB-SEM集成了高性能40 kV FIB色谱柱和超高分辨率肖特基场发射SEM色谱柱。 通过使用的制造模板图案进行自动提起，可以自动完成从基准标记到标本提起的制造过程。 对于薄板薄化，可以自动执行从粗铣到精铣的制造过程。 Mill and Monitor功能允许观察和捕获切片图像，以进行3D图像重建和内部结构分析。 提供多种支架，包括特定用途的支架，它们与日立TEM / SEM产品的兼容性可实现高通量和易用性。

日本日立聚焦离子束&电子束装置NB5000特点

超高性能FIB
★ 低CsFIB光学元件* 2在大约1 µm的光点大小下可提供50 nA或更多的束电流(@ 40 kV)。高电流可实现非常规的大面积铣削，硬质材料制造和高通量多样品制备。
新的微采样
★ 日立获得专LI的微采样技术可提供平稳的探头运动。此外，该探头还可用于新开发的吸收电流成像* 1，以帮助故障隔离。
高精度终点检测
★ 高分辨率SEM可实现高精度终点检测。截面视图功能可利用实时FIB图像显示截面轮廓，非常适合制备电子辐照敏感的样品，例如低K材料。
高分辨率SEM
★ 日立无与LUN比的SEM色谱柱和检测器设计* 2可在FIB制造期间和之后进行高分辨率SEM成像。
支架兼容TEM / STEM * 1 * 2
★ 侧面进入式STEM / TEM型staqe * 1允许使用相同的样品架(与NB5000和Hitachi TEM / STEM兼容)。转移过程中没有用镊子处理样品会导致更高通量的TEM / STEM分析。
* 1：选购配件
* 2：日立专LI：低Cs FIB光学器件：专LI申请中，微采样：JP2774884 / US5270552，截面视图功能：专LI申请中，SEM色谱柱和检测器设计：JP3081393 / US5387793，支架兼容性：JP2842083